La herramienta de litografía e-beam VB300 de Raith es un desarrollo de la exitosa serie VB6 introducida en 1993. Al diseñar la nueva herramienta, Raith descubrió que al reducir los errores de posición provocados por interferencias se mejoraría considerablemente el rendimiento de la herramienta. Combinando la rigidez mecánica mejorada y la integración del sistema de encóder basado en el interferómetro diferencial RLE20 de Renishaw, estos errores pueden reducirse hasta < 3 nm.
Raith presentó su primera herramienta de litografía de rayos vectoriales en 1993. Desde su introducción, las distintas versiones de la máquina se han empleado en una diversa gama de aplicaciones; entre otras, nanotecnología, micromecánica, microcomponentes ópticos, máscaras NGL, escritura directa en silicio y telecomunicaciones.
La herramienta VB300 tiene capacidad para cargar y exponer piezas de tan solo 5 mm sobre obleas completas de 300 mm, con los tamaños de sustrato de placa de máscara correspondientes.
La herramienta proporciona una exposición rápida mediante un generador de patrones de 50 MHz y 20 bits de resolución, con longitudes de eje de 330 x 330 mm, velocidad de plataforma máxima de 50 mm/segundo, capacidad para generar litografías de menos de 10 nm y una precisión total de 3 sigma de 10 nm.
Para lograr la especificación especificada, la herramienta VB300 incluye mejoras de rendimiento en una serie de áreas cruciales:
- Gran estabilidad entre la columna y la muestra.
- Circuitos electrónicos en columna.
- Rendimiento de cabeceo y ladeo en todo el sistema.
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